設備一覧
| 施設名 | カテゴリ | 設備（設備群）名 | 設備ID | 支援形態 | |||||||
| 成果公開型 | 成果非公開型 | ||||||||||
| 大学官公庁 | 民間 | 所内 | 民間 | ||||||||
| 協力研究 | 施設利用 | 技術代行 | 施設利用 | 技術代行 | 施設利用 | 施設利用 | 技術代行 | ||||
| 機器センター | 電子顕微鏡 | ||||||||||
| 低真空分析走査電子顕微鏡 日立ハイテクノロジーズ社製 SU6600 ショットキー型電子銃 空間分解能 1.2nm(30kV)、3.0nm(30kV) 低真空機能 EDS（Bruker AXS社製 FQ5060/XFlash6） | MS-202 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 電界放出形透過型電子顕微鏡 JEOL社製 JEM-2100F （試料 3mmφ以内） | MS-203 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 走査プローブ顕微鏡 | 走査プローブ顕微鏡 Bruker社製 Bruker Dimension XR Icon NanoElectrical Bruker社製 Bruker Dimension XR Icon NanoElectochemical | MS-204 | ○ | 要相談 | △ | 要相談 | |||||
| 表面分析 | 電子線プローブマイクロアナライザー（EPMA） 利用開始 2024.01.01 50eVまでの低エネルギーを測定可能 分光器：SS-94000SXES 測定サンプル | MS-236 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| X線 | 単結晶X線回析 利用開始 2024.04.01 Rigaku社製 XtaLAB Synergy-R/DW Mo/Cuデュアル線源、HyPix-6000検出器 サンプルサイズ 10µm～ | MS-235 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| 単結晶X線回折（CCD-1） Rigaku社製 MERCURY CCD-1・R-AXIS IV Mo線源、CCD検出器、N2ガス吹付温度可変装置 | MS-205 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 単結晶X線回折（CCD-2） Rigaku社製 MERCURY CCD-2 Mo線源、CCD検出器、N2ガス吹付温度可変装置 | MS-206 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 単結晶X線回折（微小結晶用） Rigaku社製 HyPix-AFC Mo線源、半導体検出器、N2/H2ガス吹付温度可変装置 | MS-207 | ○ | ● | ○* | ● | ||||||
| 結晶スポンジ法を用いた分子構造解析 Rigaku社製 XtaLAB P200 Mo/Cuデュアル線源、PILATUS200K検出器、100K～室温温度可変 Rigaku社製 XtaLAB SynergyCustom Mo/Cuデュアル線源、HyPix-6000HE検出器、100K～室温温度可変 | MS-208 | ○ | ● | ||||||||
| オペランド多目的X線回析 Panalytical社製 Empyrean Cu・Mo線源、半導体検出器、反射/透過スピナーステージ他 | MS-210 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 粉末X線回折 Rigaku社製 RINT-UltimaIII Cu線源、集中・平行ビーム光学系、シンチレーションカウンター | MS-209 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| X線溶液散乱計測システム Rigaku社製 NANO-Viewer 高輝度X線発生装置 RA-Micro7 2次元検出器 PILATUS200K | MS-211 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 電子分光 | 機能性材料バンド構造顕微分析システム 光電子分光装置（光電子分析器、真空紫外光源、試料冷却機構、真空チェンバー） | MS-212 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| X線光電子分光 Scienta光電子分光装置（光電子分析器R4000L1、Al-Kα単色X線源MX-650、真空紫外光源VUV5k、中和電子銃、グローブボックス） | MS-213 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 電子スピン共鳴 | 電子スピン共鳴（E680） Bruker社製 E680 W-band：超伝導マグネット(6T) ＋ 掃引コイル(70mT)、4～300 K X-band、Q-band：CW/パルス、4～300K、AWG、ENDOR、Laser | MS-214 | ○ | ○ | ○ | ||||||
| 電子スピン共鳴（EMX Plus） Bruker社製 EMX Plus X-band：CW、4～300K、高感度、デュアル | MS-215 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 電子スピン共鳴（E500） Bruker社製 E500 X-band：CW、4～300K、二重矩形、ENDOR Q-band：CW、4～300Ｋ | MS-216 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 電子スピン共鳴（E580） Bruker社製 E580 X-band：CW/パルス、4～300K、高感度、標準 | MS-217 | ○ | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| SQUID | SQUID（MPMS-7） QuantumDesign社製 MPMS-7 ±7T、1.8−400K、300-800K、DC | MS-218 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| SQUID（MPMS-XL7） QuantumDesign社製 MPMS-XL7 ±7T、1.8−400K、DC&AC、EDC | MS-219 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| SQUID（MPMS-3） QuantumDesign社製 MPMS-3 ±7T、1.8−400K、DC&AC、ETO | MS-220 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 熱分析 | 熱分析（示差走査型カロリメーター/溶液） 動作不良のため現在利用停止中 MicroCal社製 VP-DSC 1−130 ℃、500 µl | MS-221 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| 熱分析（等温滴定型カロリメーター/溶液） MicroCal社製 PEAQ-ITC 2−80 ℃、200 µl MicroCal社製 iTC200 2−80 ℃、200 µl | MS-222 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 熱分析（固体、粉末)） Rigaku社製 DSC8231/TG-DTA8122 | MS-223 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 質量分析 | MALDI-TOF質量分析 Bruker社製 Microflex LRF | MS-224 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| 分光 | 顕微ラマン分光 RENISHAW社製 inVia Reflex 波長：488,532,633,785nm、測定範囲：100-3200cm-1 分解能：面内1μm, 深度2μm、 温度： 4-350 K | MS-225 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| FT遠赤外分光 Bruker社製 IFS66v/S 10-12000cm-1 | MS-226 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 蛍光分光 HORIBA社製 SPEX Fluorolog 3-21 250−1500nm | MS-227 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 紫外・可視・近赤外分光光度計 SHIMADZU社製 UV-3600Plus 185-3300 nm | MS-228 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 絶対PL量子収率測定装置 HAMAMATSU社製 Quantaurus-QY C11347-01 300-950 nm | MS-229 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 円二色性分散 JASCO社製 J-1500 165-1100nm | MS-230 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| レーザー | ピコ秒レーザー Spectra-Physics, Quantronix社製 Millennia-Tsunami, TITAN-TOPAS | MS-231 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| 高磁場 NMR | 高磁場NMR(600MHz固体) Bruker社製 AVANCE 600 固体 | MS-232 | ○ | ● | ○ | ● | |||||
| 高磁場NMR(600MHz 溶液）（2023年6月1日より共用を再開します。05/25/2023） JEOL社製 JNM-ECA600 溶液 | MS-233 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 高磁場NMR(600MHz 溶液） 利用開始 2024.01.01 JEOL社製 JNM-ECZL600G 溶液 | MS-237 | ○ | ● | ○ | ● | ||||||
| 装置開発室 | マイクロストラクチャー | マスクレス露光装置 段差計（KLA-Tencor P7） スピンコーター（ミカサ社製 MS-A100） | MS-101 | ○ | ● | ○* | ● | ||||
| 3次元光学プロファイラーシステム Zygo社製 Nexview X-Yステージ可動範囲：200㎜×200㎜ Z軸可動範囲：100㎜ | MS-102 | ○ | ● | ○* | ● | ||||||
| 電子ビーム描画装置 エリオニクス社製 ELS-G100 | MS-103 | ○ | ● | ○* | ● | ||||||
| 放射光 | UVSOR | X線磁気円二色性分光 UVSOR-III BL4B (100-1000eV円偏光) 超伝導磁石はJANIS社製7THM-SOM-UHV (±7T, 5K)、試料作製槽 LEED/AES, 蒸着などを装備 | MS-001 | ○ | ● | ○ | ● | ||||
| 合成ものづくり支援 | 大規模量子化学計算 | 大規模量子化学計算 高精度ナノ構造電子状態計算 | MS-302 | ○ | ご 相 談 く だ さ い | ご 相 談 く だ さ い |
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| 有機 FET | 有機 FET 有機FETの設計・製作・各種評価 有機伝導体半導体合成 | MS-301 | ○ | ||||||||
| 有機合成DX | 有機合成DX 有機合成の自動化とAIの活用 有機分子および反応のDFT計算 | MS-304 | ○ | ||||||||
| 磁性薄膜作製評価 | 磁性薄膜作製評価 超高真空下での磁性薄膜作成・磁気光学Kerr効果によるその場観察評価 紫外レーザー磁気円二色性 光電子顕微鏡も利可 | MS-303 | ○ | ||||||||
| 機器センター長協力研究 | 機器センター長協力研究 機器センター以外の分子研施設利用を実施する際に、機器センター機器（所内専用機器を含む）を補助的に利用するための区分 | ○ | |||||||||
| ○：無料 ○*：消耗品実費 △：協力研究として ●：有料 | |||||||||||
| 設備IDの表記中 は、RDEシステム対応済み設備を示す | |||||||||||