設備一覧

施設名カテゴリ設備(設備群)名設備ID支援形態
成果公開型成果非公開型
大学官公庁民間所内民間
協力研究施設利用技術代行施設利用技術代行施設利用施設利用技術代行
機器センター電子顕微鏡電界放出形走査電子顕微鏡 現在利用停止中 
JEOL社製 JSM-6700F (試料 2インチまで)
MS-201
低真空分析走査電子顕微鏡
日立ハイテクノロジーズ社製 SU6600 ショットキー型電子銃
 空間分解能 1.2nm(30kV)、3.0nm(30kV)
 低真空機能 EDS(Bruker AXS社製 FQ5060/XFlash6)
MS-202
電界放出形透過型電子顕微鏡
JEOL社製 JEM-2100F (試料 3mmφ以内)
MS-203
走査プローブ顕微鏡走査プローブ顕微鏡
Bruker社製 Bruker Dimension XR Icon NanoElectrical
Bruker社製 Bruker Dimension XR Icon NanoElectochemical
MS-204要相談要相談
表面分析電子線プローブマイクロアナライザー(EPMA) 利用開始 2024.01.01 
50eVまでの低エネルギーを測定可能
分光器:SS-94000SXES
MS-236
X線  単結晶X線回折(CCD-1)
Rigaku社製 MERCURY CCD-1・R-AXIS IV
 Mo線源、CCD検出器、N2ガス吹付温度可変装置
MS-205
単結晶X線回折(CCD-2)
Rigaku社製 MERCURY CCD-2
 Mo線源、CCD検出器、N2ガス吹付温度可変装置
MS-206
単結晶X線回折(微小結晶用)
Rigaku社製 HyPix-AFC
 Mo線源、半導体検出器、N2/H2ガス吹付温度可変装置
MS-207*
結晶スポンジ法を用いた分子構造解析
Rigaku社製 XtaLAB P200
 Mo/Cuデュアル線源、PILATUS200K検出器、100K~室温温度可変
Rigaku社製 XtaLAB SynergyCustom
 Mo/Cuデュアル線源、HyPix-6000HE検出器、100K~室温温度可変
Rigaku社製 SuperNova  動作不良のため現在利用停止中 
 Mo/Cuデュアル線源、Atlas S2 CCD検出器、100K~室温温度可変
MS-208
オペランド多目的X線回析
Panalytical社製 Empyrean
 Cu・Mo線源、半導体検出器、反射/透過スピナーステージ他
MS-210
粉末X線回折
Rigaku社製 RINT-UltimaIII
 Cu線源、集中・平行ビーム光学系、シンチレーションカウンター
MS-209
X線溶液散乱計測システム
Rigaku社製 NANO-Viewer
 高輝度X線発生装置 RA-Micro7
 2次元検出器 PILATUS200K
MS-211
単結晶X線回析  公開利用準備中(2024年4月予定) 
Rigaku社製 XtaLAB Synergy-R/DW
 Mo/Cuデュアル線源、HyPix-6000検出器
 サンプルサイズ 10µm~
MS-235
電子分光 機能性材料バンド構造顕微分析システム
 光電子分光装置(光電子分析器、真空紫外光源、試料冷却機構、真空チェンバー)
MS-212
X線光電子分光
 Scienta光電子分光装置(光電子分析器R4000L1、Al-Kα単色X線源MX-650、真空紫外光源VUV5k、中和電子銃、グローブボックス)
MS-213
電子スピン共鳴電子スピン共鳴(E680)
Bruker社製 E680
 W-band:超伝導マグネット(6T) + 掃引コイル(70mT)、4~300 K
 X-band、Q-band:CW/パルス、4~300K、AWG、ENDOR、Laser
MS-214
電子スピン共鳴(EMX Plus)
Bruker社製 EMX Plus
 X-band:CW、4~300K、高感度、デュアル
MS-215
電子スピン共鳴(E500)
Bruker社製 E500
 X-band:CW、4~300K、二重矩形、ENDOR
 Q-band:CW、4~300K
MS-216
電子スピン共鳴(E580)
Bruker社製 E580
 X-band:CW/パルス、4~300K、高感度、標準
MS-217
SQUIDSQUID(MPMS-7)
QuantumDesign社製 MPMS-7
 ±7T、1.8−400K、300-800K、DC
MS-218
SQUID(MPMS-XL7)
QuantumDesign社製 MPMS-XL7
 ±7T、1.8−400K、DC&AC、EDC
MS-219
SQUID(MPMS-3)
QuantumDesign社製 MPMS-3
 ±7T、1.8−400K、DC&AC、ETO
MS-220
熱分析熱分析(示差走査型カロリメーター/溶液)
MicroCal社製 VP-DSC
  1−130 ℃、500 µl
MS-221
熱分析(等温滴定型カロリメーター/溶液)
MicroCal社製 PEAQ-ITC
 2−80 ℃、200 µl
MicroCal社製 iTC200
 2−80 ℃、200 µl
MS-222
熱分析(固体、粉末)
Rigaku社製 DSC8231/TG-DTA8122 
MS-223
質量分析 MALDI-TOF質量分析
Bruker社製 Microflex LRF
MS-224
分光顕微ラマン分光
RENISHAW社製  inVia Reflex
  波長:488,532,633,785nm、測定範囲:100-3200cm-1
 分解能:面内1μm, 深度2μm、  温度: 4-350 K
MS-225
FT遠赤外分光
Bruker社製 IFS66v/S
 10-12000cm-1
MS-226
蛍光分光
HORIBA社製 SPEX Fluorolog 3-21
 250−1500nm
MS-227
紫外・可視・近赤外分光光度計
SHIMADZU社製 UV-3600Plus
 185-3300 nm
MS-228
絶対PL量子収率測定装置
HAMAMATSU社製 Quantaurus-QY C11347-01
 300-950 nm
MS-229
円二色性分散
JASCO社製 J-1500
 165-1100nm
MS-230
レーザーピコ秒レーザー
Spectra-Physics, Quantronix社製 Millennia-Tsunami, TITAN-TOPAS
MS-231
高磁場 NMR高磁場NMR(600MHz固体)
Bruker社製 AVANCE 600
 固体
MS-232
高磁場NMR(600MHz 溶液)(2023年6月1日より共用を再開します。05/25/2023)
JEOL社製 JNM-ECA600 
 溶液
MS-233
高磁場NMR(600MHz 溶液) 利用開始 2024.01.01 
JEOL社製 JNM-ECZL600G 
 溶液
MS-237
装置開発室マイクロストラクチャーマスクレス露光装置
段差計(KLA-Tencor P7)
スピンコーター(ミカサ社製 MS-A100)
MS-101*
3次元光学プロファイラーシステム
Zygo社製 Nexview
X-Yステージ可動範囲:200㎜×200㎜
    Z軸可動範囲:100㎜
MS-102*
電子ビーム描画装置
エリオニクス社製 ELS-G100
MS-103*
放射光UVSORX線磁気円二色性分光
UVSOR-III BL4B (100-1000eV円偏光)
 超伝導磁石はJANIS社製7THM-SOM-UHV (±7T, 5K)、試料作製槽 LEED/AES, 蒸着などを装備
MS-001        
合成ものづくり支援大規模量子化学計算大規模量子化学計算
高精度ナノ構造電子状態計算
MS-302











有機 FET有機 FET
有機FETの設計・製作・各種評価
有機伝導体半導体合成
MS-301
有機合成DX有機合成DX
有機合成の自動化とAIの活用
有機分子および反応のDFT計算
MS-304
磁性薄膜作製評価磁性薄膜作製評価
超高真空下での磁性薄膜作成・磁気光学Kerr効果によるその場観察評価
紫外レーザー磁気円二色性 光電子顕微鏡も利可
MS-303
機器センター長協力研究機器センター長協力研究
機器センター以外の分子研施設利用を実施する際に、機器センター機器(所内専用機器を含む)を補助的に利用するための区分
○:無料  ○*:消耗品実費  △:協力研究として  :有料  
設備IDの表記中     は、RDEシステム対応済み設備を示す    
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