設備一覧

施設名カテゴリ設備(設備群)名支援形態
成果公開型成果非公開型
大学官公庁民間所内民間
協力研究施設利用技術代行施設利用技術代行施設利用施設利用技術代行
機器センター電子顕微鏡電界放出形走査電子顕微鏡
JEOL社製 JSM-6700F (試料 2インチまで)

低真空分析走査電子顕微鏡
日立ハイテクノロジーズ社製 SU6600 ショットキー型電子銃
 空間分解能 1.2nm(30kV)、3.0nm(30kV)
 低真空機能 EDS(Bruker AXS社製 FQ5060/XFlash6)
電界放出形透過型電子顕微鏡
JEOL社製 JEM-2100F (試料 3mmφ以内)
走査プローブ顕微鏡走査プローブ顕微鏡
Bruker社製 Bruker Dimension XR Icon NanoElectrical
Bruker社製 Bruker Dimension XR Icon NanoElectochemical
要相談要相談
X線  単結晶X線回折(CCD-1)
Rigaku社製 MERCURY CCD-1・R-AXIS IV
 Mo線源、CCD検出器、N2ガス吹付温度可変装置
単結晶X線回折(CCD-2)
Rigaku社製 MERCURY CCD-2
 Mo線源、CCD検出器、N2ガス吹付温度可変装置
単結晶X線回折(微小結晶用)
Rigaku社製 HyPix-AFC
 Mo線源、半導体検出器、N2/H2ガス吹付温度可変装置
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結晶スポンジ法を用いた分子構造解析
Rigaku社製 XtaLAB P200
 Mo/Cuデュアル線源、PILATUS200K検出器、100K~室温温度可変
Rigaku社製 SuperNova
 Mo/Cuデュアル線源、Atlas S2 CCD検出器、100K~室温温度可変
粉末X線回折
Rigaku社製 RINT-UltimaIII
 Cu線源、集中・平行ビーム光学系、シンチレーションカウンター
オペランド多目的X線回析
Panalytical社製 Empyrean
 Cu・Mo線源、半導体検出器、反射/透過スピナーステージ他
X線溶液散乱計測システム
Rigaku社製 NANO-Viewer
 高輝度X線発生装置 RA-Micro7
 2次元検出器 PILATUS200K
電子分光 機能性材料バンド構造顕微分析システム
 光電子分光装置(光電子分析器、真空紫外光源、試料冷却機構、真空チェンバー)
X線光電子分光
 Scienta光電子分光装置(光電子分析器R4000L1、Al-Kα単色X線源MX-650、真空紫外光源VUV5k、中和電子銃、グローブボックス)
電子スピン共鳴電子スピン共鳴(E680)
Bruker社製 E680
 W-band:超伝導マグネット(6T) + 掃引コイル(70mT)、4~300 K
 X-band、Q-band:CW/パルス、4~300K、AWG、ENDOR、Laser
電子スピン共鳴(EMX Plus)
Bruker社製 EMX Plus
 X-band:CW、4~300K、高感度、デュアル
電子スピン共鳴(E500)
Bruker社製 E500
 X-band:CW、4~300K、二重矩形、ENDOR
 Q-band:CW、4~300K
電子スピン共鳴(E580)
Bruker社製 E580
 X-band:CW/パルス、4~300K、高感度、標準
SQUIDSQUID(MPMS-7)
QuantumDesign社製 MPMS-7
 ±7T、1.8−400K、300-800K、DC
SQUID(MPMS-XL7)
QuantumDesign社製 MPMS-XL7
 ±7T、1.8−400K、DC&AC、EDC
熱分析熱分析(示差走査型カロリメーター/溶液)
MicroCal社製 VP-DSC
  1−130 ℃、500 µl
熱分析(等温滴定型カロリメーター/溶液)
MicroCal社製 PEAQ-ITC
 2−80 ℃、200 µl
MicroCal社製 iTC200
 2−80 ℃、200 µl
熱分析(固体、粉末)
Rigaku社製 DSC8231/TG-DTA8122 
質量分析 MALDI-TOF質量分析
Bruker社製 Microflex LRF
分光顕微ラマン分光
RENISHAW社製  inVia Reflex
  波長:488,532,633,785nm、測定範囲:100-3200cm-1
 分解能:面内1μm, 深度2μm、  温度: 4-350 K
FT遠赤外分光
Bruker社製 IFS66v/S
 10-12000cm-1
蛍光分光
HORIBA社製 SPEX Fluorolog 3-21
 250−1500nm
紫外・可視・近赤外分光光度計
SHIMADZU社製 UV-3600Plus
 185-3300 nm
絶対PL量子収率測定装置
HAMAMATSU社製 Quantaurus-QY C11347-01
 300-950 nm
円二色性分散
JASCO社製 J-1500
 165-1100nm
レーザーピコ秒レーザー
Spectra-Physics, Quantronix社製 Millennia-Tsunami, TITAN-TOPAS
高磁場 NMR高磁場NMR(600MHz固体)
Bruker社製 AVANCE 600
 固体
高磁場NMR(600MHz 溶液)(故障中のため現在利用できません。09/27/2022)
JEOL社製 JNM-ECA600 
 溶液
装置開発室マイクロストラクチャーマスクレス露光装置
精密温度調整機能付クリーンブース
マスクアライナー(ミカサ社製 MA-10)
スピンコーター (ミカサ社製 MS-A100)
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3次元光学プロファイラーシステム
精密温度調整機能付クリーンブース
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電子ビーム描画装置
エリオニクス社製 ELS-G100
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放射光UVSORX線磁気円二色性分光
UVSOR-III BL4B (100-1000eV円偏光)
 超伝導磁石はJANIS社製7THM-SOM-UHV (±7T, 5K)、試料作製槽 LEED/AES, 蒸着などを装備
        
協力研究大規模量子化学計算大規模量子化学計算
高精度ナノ構造電子状態計算












有機 FET有機 FET
有機FETの設計・製作・各種評価
有機伝導体半導体合成
有機合成DX有機合成DX
有機分子の設計、合成、解析
光学異性体の評価、分離精製
磁性薄膜作製評価磁性薄膜作製評価
超高真空下での磁性薄膜作成・磁気光学Kerr効果によるその場観察評価
紫外レーザー磁気円二色性 光電子顕微鏡も利可
金属錯体金属錯体
金属錯体の設計、合成、構造解析および物性評価
光学特性および電気化学特性の評価
機器センター長協力研究機器センター長協力研究
機器センター以外の分子研施設利用を実施する際に、機器センター機器(所内専用機器を含む)を補助的に利用するための区分
○:無料  ○*:消耗品実費  △:協力研究として  :有料